【專題 | 「光刻機」光刻技術_ASML光刻機_國產光刻機_EUV光刻機】

在科技時代，擁有更多的技術則意味著更多的市場話語權，在光刻機市場也同樣，現在基本處于市場壟斷地位的ASML也是憑借的技術優勢領先。

日本Nikon和Canon：退出高端光刻機市場

目前其它幾家都沒有正式發布的EUV級別產品能夠和ASML一較高下，只有Nikon NRS系列有ArF浸入式光刻機，參數指標上勉強可以達到ASML高端產品的水準。但是從業界的反饋來看，Nikon高端系列實際性能相比ASML同檔次設備仍有不小差距，尤其是在套刻精度上遠遠達不到官方宣稱水準，以至于Nikon光刻設備在售價不到ASML同類產品一半的前提下，依舊銷售不佳。

Canon早已在很多年前便放棄了在高端光刻機上的競爭，目前產品主要集中在面板等領域。目前他們還在銷售的集成電路光刻設備在指標標上只相當于ASML的低端產品PAS5500系列。Nikon作為世界上僅有的三家能夠制造商用光刻機的公司之一，似乎在這個領域不被許多普通人知道，許多人只知道Nikon的相機做的好，卻不知道Nikon光刻機同樣享譽全球。

Nikon (7731.JP)成立于1917年，是總部設在日本東京，主要分四個事業領域，分別精密設備公司、映像公司、儀器公司及其他(包括CMP裝置事業、測量機事業、望遠鏡事業等)。

荷蘭ASML：研發能力代表市場地位

ASML (全稱：Advanced Semiconductor Material Lithography，ASML Holding N.V)，中文名稱為阿斯麥(中國大陸)、艾司摩爾(中國臺灣)，是總部設在荷蘭Veldhoven的全球最大的半導體設備制造商之一，向全球復雜集成電路生產企業提供領先的綜合性關鍵設備。ASML的股票分別在阿姆斯特丹及紐約上市。另外，ASML的大股東是英特爾，三星和臺積電(TSMC)。

ASML的產品一共有四個系列，ASML一直以來保持了高研發投入，因此其專利申請量也長期保持高位。第一波高速上漲來自2000至2004年，這一時期Intel、AMD、VIA及IBM等企業設計的半導體芯片性能快速提升，為了克制芯片在高頻率運行時產生的高溫，他們對半導體制程提出了越來越高的要求，這間接導致了光刻機技術的不斷提升。不過由于光物理性質的影響，在光刻機發展到193nm后，研發陷入了困局。幾大芯片巨頭合力將193nm沉浸式光刻技術延伸至15nm令光刻機企業研發及專利申請下滑。但是沉浸式光刻終于在7nm之后難以再次發展，EUV成為了解決這一問題的關鍵，近些年里ASML相關技術專利申請再次進入增長階段。

國外光刻機企業的市場發展分析

雖然占據了全球80%的市場份額，但是ASML并非技術壟斷。ASML光刻機設備90%的零部件都依賴外購，光源來自于美國Cymer(2013年，ASML完成對Cymer的收購)，光學模組來自德國蔡司，計量設備來自美國是德科技，傳送帶則來自荷蘭VDL集團。同時，ASML也非常重視并購投資以及與其他企業合作的策略，光刻機的研發需要投入巨大的人力物力財力，并事關全球半導體芯片的升級速度。

目前，光刻機領域的龍頭老大是荷蘭ASML，并已經占據了高達80%的市場份額，壟斷了高端光刻機市場。日本尼康在高端光刻機上完全被ASML擊敗，即便尼康的ArF光刻機售價僅僅不到ASML的一半也無補于事。Intel、臺積電、三星用來加工14/16nm芯片的光刻機都是買自ASML，格羅方德、聯電以及中芯國際等晶圓廠的光刻機主要也是來自ASML。

更關鍵的是，最先進的EUV光刻機全球僅僅ASML能夠生產，ASML在今年第三季度和第四季度出售的兩臺EUV光刻機售價都超過1億美元，落后EUV一代的ArF光刻機平均售價也在4000萬至5000萬歐元左右，從高企的報價和EUV光刻機全球僅此一家出售可以看出，光刻機的技術門檻極高，是人類智慧集大成的產物。

相比之下，國內光刻機廠商差距則較大，處于技術領先的上海微電子裝備有限公司已量產的光刻機中，性能最好的是能用來加工90nm芯片的光刻機，技術差距說是鴻溝都不為過。正是因此，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次從荷蘭空運至廈門機場的ASML光刻機，就是用于芯片生產制造的高端光刻機，由于是廈門的一家公司申報進口的，筆者猜測，這臺設備很有可能是廈門當地政府與臺灣聯華電子合資的晶圓廠從荷蘭ASML采購的。不過，由于西方瓦森納協議的限制，中國只能買到ASML的中低產品，這一點從廈門當地企業進口的光刻機報價僅1億人民幣就可以看出來了。

在市場發展策略方面，ASML現在采用的機器零件有百分之九十來自于采購，這使得企業能夠專注于用戶和系統的技術。

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